Pall Lithography & Photoresist Filtration

Pall / 颇尔光刻胶过滤器与滤芯

围绕光刻胶中的颗粒、凝胶、金属离子与微气泡控制，根据化学体系、膜材、批量或使用点位置、流量、压差和设备接口，整理 Pall（颇尔）光刻胶滤芯、过滤器与溶剂去金属产品范围。

Product families

常见产品系列

具体系列、可选规格和供货状态以实际项目确认为准。

Falcon®	面向光刻胶设备点位过滤的低滞留量过滤器系列。
PhotoKleen™	面向光刻化学品点位分配与微气泡控制的过滤产品系列。
Ultipleat® P-Nylon	适用于兼容介质的光刻胶、溶剂及 TMAH 显影液批量过滤系列。
P Emflon® / PE-Kleen	面向兼容光刻胶、抗反射涂层及高纯光刻化学品的批量过滤系列。
Xpress PE-Kleen	Pall 公开资料中的亚 1 nm HDPE 高流量方向，面向先进光刻和相应 EUV 材料的颗粒与洁净度控制。
IonKleen™ SL	利用表面键合离子交换基团，面向光刻胶前体溶剂、树脂和聚合物中的金属离子净化。

Applications

产品是否适用仍需结合具体介质、设备和工艺条件确认。

FAQ

先把边界条件说清楚，通常能显著减少询价往返。

Pall 光刻胶过滤器可以只按过滤精度选择吗？

不建议。还要同时确认光刻胶化学体系、膜材吸附、凝胶负载、润湿方式、流量压差、滞留量和设备接口。

Falcon、PhotoKleen 和 Ultipleat P 如何区分？

它们对应的结构、安装位置、膜材和应用条件不同。应先区分批量过滤与设备点位过滤，再依据介质和设备条件核对具体系列。

众睿芯可以协助确认 Pall 旧型号吗？

可以。请提供完整型号、标签照片、使用介质、安装位置、数量和期望交期，我们会先整理产品识别与待确认项。

Pall 产品能否用于光刻胶去金属或去金杂？

Pall IonKleen SL 官方资料面向光刻胶前体溶剂、树脂和聚合物中的金属离子净化；成品光刻胶能否采用离子交换净化必须评估配方组分被吸附或改变的风险。

EUV、MOR 和 NIL 光刻胶可以共用同一种滤芯吗？

不能直接共用。EUV CAR、金属氧化物光刻胶 MOR 和纳米压印材料 NIL 的组成、颗粒形态、黏度、吸附风险和设备位置不同，必须分别做材料兼容性、压差、缺陷和材料损失验证。

资料来源：Pall 官方产品页面。本站不是 Pall 官方网站，页面用于中文需求整理与全国项目服务，不替代品牌正式技术文件。

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